台积电离职工程师陈力铭、在职工程师吴秉骏、戈一平因涉嫌泄露关键技术，被检方以违反台湾地区所谓“安全法”等罪名起诉。智慧财产及商业法院于昨日完成法庭辩论，案件定于4月27日宣判。此外，经查，陈力铭前年还涉嫌指使前台积电工程师陈韦杰，用手机偷拍2纳米机密资料，上周法院裁定，陈力铭、陈韦杰二人分别自4月1日及4月8日起，延长羁押2个月。

台湾地区高等检察署智能财产检察分署起诉称，陈力铭曾担任台积电Feb 12厂良率部门工程师，离职后进入台积电的半导体制造设备供应商——TOKYO ELECTRON（简称TEL）营销部门。

检方表示，2023年至去年上半年期间，陈力铭为帮助TEL争取成为台积电先进制程更多站点的设备供应商，多次要求当时仍在台积电任职的工程师吴秉骏、戈一平提供关键技术及营业秘密，并将相关资料拍摄复制后，交由TEL用于检讨改善蚀刻机台性能，以争取台积电2纳米制程蚀刻站点量产机台的供应资格。

台积电发现异常后开展内部调查，怀疑有在职及离职员工非法获取关键技术与营业秘密，于去年7月8日提起告诉。同年7月25日至28日，智财分署检察官指挥调查局开展搜索、约谈工作，讯问结束后，依法申请对陈力铭、吴秉骏、戈一平予以羁押并禁止会见，获得法院批准。

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去年8月27日，智财分署依据所谓“营业秘密法”中“意图域外使用而窃取营业秘密罪”“窃取营业秘密罪”，以及台湾地区所谓“安全法”中“国家核心关键技术营业秘密之域外使用罪”，对三人提起公诉，并建议法院判处陈力铭执行有期徒刑14年、吴秉骏执行有期徒刑9年、戈一平有期徒刑7年。

检方后续进一步查明，2024年5月，陈力铭涉嫌指使前台积电工程师陈韦杰，用手机偷拍了数十张涉及2纳米制程原料与设备技术的机密资料。事件曝光后，TEL一名卢姓营销经理疑似为掩盖证据，删除了云端硬盘内存储的台积电相关机密资料。

检方以违反台湾地区所谓“安全法”及湮灭刑事证据等罪嫌，追加起诉陈力铭、陈韦杰、卢姓经理及TEL公司，分别建议法院判处陈力铭有期徒刑7年、陈韦杰有期徒刑8年8个月、卢姓经理有期徒刑1年，对TEL公司建议判处罚金2500万元新台币。

全案侦查终结后，检方于今年1月提起第二次公诉；陈韦杰被移送审理后，也被智慧财产及商业法院裁定继续羁押。昨日下午，智慧财产及商业法院完成法庭辩论，定于今年4月27日上午11时宣判，同时责令吴秉骏、戈一平于宣判当日到庭听判。

此外，检方考量到被告人陈韦杰否认其违反台湾地区所谓“安全法”的犯罪行为，其对涉案情节、作案手段的供述前后不一，且对犯罪细节避重就轻；同时，针对陈韦杰共同犯罪的相关情节，仍有必要对相关电子记录与同案犯陈力铭及其他证人的供述内容进行核对查证。检方认为，若陈力铭、陈韦杰二人继续羁押，仍有相互串供或湮灭证据的可能，进而导致案情无法查清，原羁押理由依然成立。据此，今日法院裁定，陈力铭、陈韦杰分别自今年4月1日及4月8日起，延长羁押2个月，并禁止其接见、通信。