国家知识产权局信息显示，上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体(上海）有限公司申请一项名为“一种晶圆对中方法及晶圆斜边清洗设备”的专利，公开号CN121793708A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明涉及半导体生产领域，特别是涉及一种晶圆对中方法及晶圆斜边清洗设备，通过步骤一，将待对准晶圆置于晶圆基座上；步骤二，夹持所述待对准晶圆移动至预设的示教位置，记录所述待对准晶圆处于0度姿态；步骤三，启动所述固定组件将所述待对准晶圆固定；步骤四，令所述卡夹手臂及所述传感器手臂均与所述待对准晶圆脱离接触，再单独移动所述传感器手臂至与所述待对准晶圆接触，记录接触位置；步骤五，根据所述接触位置与所述示教位置确定位移调整量；步骤六，根据所述位移调整量移动所述待对准晶圆；步骤七，将所述待对准晶圆旋转至90度姿态，重复步骤三至步骤六。本发明借助位移传感器的高精度定位，能够兼顾高对中准确度与较高的对中速度。

天眼查资料显示，上海至纯洁净系统科技股份有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本38296.425万人民币。通过天眼查大数据分析，上海至纯洁净系统科技股份有限公司共对外投资了46家企业，参与招投标项目79次，财产线索方面有商标信息72条，专利信息335条，此外企业还拥有行政许可54个。

至微半导体(上海）有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本53144万人民币。通过天眼查大数据分析，至微半导体(上海）有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目36次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息304条，此外企业还拥有行政许可2个。

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作者：情报员