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4月8日，华海清科公告称，公司第1000台化学机械抛光（CMP）装备出机，发往国内集成电路制造龙头企业。
从“零的突破”到累计出机突破千台，华海清科用扎实的技术积累与持续的市场开拓，书写了国产高端半导体装备从追赶到并跑的跨越式发展。这既是华海清科奋斗征程的里程碑，更是其迈向更高目标的新起点
目前，华海清科公司CMP装备已批量进入国内先进制程大生产线，部分核心技术指标超越国际先进水平。CMP作为实现纳米级表面平整度控制的核心工艺，在先进逻辑、先进存储及先进封装等领域的应用场景与工艺需求不断拓展。华海清科公司依托在CMP领域积累的深厚技术与产业经验开展前瞻性布局，已形成覆盖关键工艺环节的成套解决方案，在产业升级与市场需求扩张的双重驱动下迎来新的发展机遇。
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