国家知识产权局信息显示，湖北兴福电子材料股份有限公司申请一项名为“一种高选择性金属蚀刻液及蚀刻方法”的专利，公开号CN121852055A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明涉及一种高选择性金属蚀刻液及蚀刻方法。在本发明中，金属氮化钛和钨的高选择性蚀刻液由硫酸和高选择性双氧水两部分组成，其中高选择性双氧水包含双氧水、蚀刻保护剂。在蚀刻液对钨及氮化钛蚀刻的过程中，能够保持稳定的蚀刻速率和较大的选择比。本发明运用控制硫酸和双氧水混合放热的方式自加热蚀刻液，使蚀刻液的温度在短时间升到100℃以上，减小加热能耗，提升氮化钛和钨膜层蚀刻速率，并通过保护剂调节蚀刻选择比和蚀刻形貌，保持高的蚀刻选择比，解决半导体制造过程中一大难题。

天眼查资料显示，湖北兴福电子材料股份有限公司，成立于2008年，位于宜昌市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本36000万人民币。通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目231次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息515条，此外企业还拥有行政许可287个。

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作者：情报员