尼康退出光刻机竞争，日系制造又败走一城！|佳能|尼康|日系制造|知名企业

不久前，光学巨头尼康（Nikon）发布了史上最为惨烈的亏损预警——预计2025财年将出现850亿日元的巨额亏损，创下公司自1917年创立以来的百年最差纪录。

其核心的光刻机业务遭遇全线溃败，据多处报道显示：2025年下半年，尼康光刻机仅出货9台，且全部为技术含量较低的成熟制程老款设备，技术代际明显滞后。这家曾为英特尔、AMD、格罗方德供货、一度引领行业标准的王者，如今在先进制程领域已彻底失去竞争力。

尼康不仅未能抓住这一波AI算力爆发的红利，反而因订单大幅萎缩和库存积压，陷入了前所未有的财务困境。

与之形成鲜明对比的是，其老对手荷兰ASML在2025年狂卖327台光刻机，仅高端EUV光刻机就出货48台，占据全球高端市场的绝对主导地位。

浸润式的失败

曾与ASML、佳能并称“光刻机三巨头”的尼康，在2001年时还占据全球光刻机市场约40%的份额，全球几乎每两台光刻机中就有一台产自尼康。如今，其市占率已跌至个位数，市场竞争力几近归零。尼康的光刻机业务起步于上世纪70年代，依托其在相机镜头领域的核心技术优势，快速切入半导体光刻设备市场。

彼时，全球半导体产业正处于快速崛起的初期，芯片制程从微米级向纳米级逐步迈进，而光刻设备正是芯片制造中最核心、最复杂的设备。凭借领先的光学技术，尼康迅速在光刻机市场站稳脚跟，并在上世纪80年代迎来爆发式增长。

行业数据显示，20世纪90年代中期，尼康光刻机的全球市场份额曾一度突破50%，与佳能平分秋色，两者合计占据全球光刻机市场90%以上的份额，形成了“日企双雄”的垄断格局。当时，英特尔、AMD等美国芯片巨头正全力推进CPU制程升级，而尼康光刻机凭借稳定的性能与领先的技术，成为这些企业的核心供应商。尼康为英特尔量身定制的光刻设备，完美匹配其CPU生产需求；巅峰时期，尼康光刻机不仅是技术标杆，更是行业标准的制定者，其推出的光刻技术规范被全球多数芯片厂商采纳。

转折发生在2002年，那一年，时任台积电资深处长的林本坚，林本坚提出了一个颠覆性设想：在镜头与晶圆之间注入一层水。利用水的折射率，可以将193nm光源的等效波长缩短至134nm，从而绕过157nm路线的诸多难题，这就是后来改变半导体历史的浸没式光刻技术路线。

但该方案却遭到尼康几乎所有高管的反对，深层原因在于路径依赖。当时尼康已在157纳米干式光刻机上投入超过数亿美元，若转攻浸没式路线，意味着此前的投入将全部打水漂。

在尼康遭遇挫折后，林本坚飞往荷兰。当时，ASML已将所有资源押注在这一极具颠覆性的构想上。2004年，ASML与台积电携手推出全球首台浸润式光刻机ArFi，凭借更高的精度与更低的成本迅速席卷全球市场。2007年，ASML的市场占有率突破60%，首次形成压倒性优势；2010年后，其市占率进一步突破70%，尼康与佳能被彻底甩在身后。尼康引以为傲的顶级镜头，在新的技术路线面前瞬间失色。尼康和佳能被迫放弃157nm路线转而跟进浸没式，但早已为时过晚。

豪赌EUV的失败

面对浸没式光刻机战役的惨败，尼康将希望寄托于下一代技术——EUV（极紫外光刻）。这种波长更短（13.5纳米）、能在芯片上刻蚀更微小电路的技术，被尼康视为重返巅峰的关键一役，然而世界已然改变。

在尼康全力投入EUV项目的2012年，ASML迎来了英特尔、三星、台积电三家企业的首次大规模战略投资。三大客户共同注资，助力ASML加快EUV技术研发进程，同时搭建起专属的EUV联盟。该联盟不仅绑定了全球最顶尖的芯片制造商，还汇聚了德国蔡司（镜头）、美国Cymer（光源）等产业链各环节的全球领军企业。这种“垂直合作”模式让ASML得以集中资源聚焦系统集成与核心技术突破，无需在所有环节从头自研。更要命的是，曾经在芯片上吃过日本大亏的美国，以国家安全为由，将尼康、佳能等日系厂商排除在EUV技术联盟之外，切断了它们获取美国顶尖技术的通道。

截至2018年，尼康在EUV项目上的投资据估算已超千亿日元，堪称公司史上最大单笔技术押注。然而，这笔投入仅换来一台无法商用的原型机。当ASML的EUV光刻机早已在台积电产线上持续迭代升级时，尼康的原型机仍在实验室中闲置。2018年台积电宣布7纳米制程量产之际，ASML凭借EUV技术垄断了全球90%的高端光刻机订单，形成无可替代的技术霸权。最终，尼康不得不宣布终止EUV光刻机的商业化开发。

退出中国市场成为最后一根稻草

外部政策环境更是雪上加霜。中国曾是尼康最大的“救命稻草”——随着大陆晶圆厂加速扩产，尼康精密设备对华销量占比一度超过40%。然而，在美国对中国实施半导体设备出口管制时，尼康选择紧跟美国步伐，主动放弃合作机会，最终导致设备交付延误、成本飙升，中国客户纷纷转向国产替代方案，进一步挤压了其生存空间。