前沿导读
据《日经BP》新闻指出， 日本曾经是全球半导体产业的霸主，并且统治了全球光刻机市场，但是如今却输给了荷兰的ASML。甚至日本最先进的半导体公司Rapidus，都已经引进ASML的EUV光刻机来制造先进芯片。
Rapidus公司的社长小池淳义在接受日经新闻记者采访时指出：什么都想自己做，追求在技术上面的独立自主，这是日本半导体产业失败的主要原因。瞄准尖端芯片技术的Rapidus，未来将会与美国的IBM、IMEC（比利时微电子研究中心）等机构密切合作，掌握技术主导权。
参考资料： 阿斯麦为何能超越尼康和佳能？ https://mp.weixin.qq.com/s/Pg14NLCRxTvcRf3s8GZOkg独立自主
在上世纪90年代，尼康和佳能是全球光刻机产业的霸主。而1984年才成立的荷兰ASML，还只是一个因为被母公司飞利浦嫌弃花钱太多，从而独立出来的新光刻机企业。
在尼康和佳能发展起来之前，美国的GCA和珀金埃尔默是光刻机市场的初代霸主。
但是美国光刻机企业仗着自家产品的市场占比较高，开始慢待客户，甚至还会优先满足于美国本土客户，然后才轮到其他海外企业。哪怕是海外企业采购光刻机的订单时间比美国本土企业早，GCA和珀金埃尔默也会优先给美国企业供货。
在这种情况下，日本政府推出了超大规模集成电路计划（VLSI），联合尼康、佳能、索尼、东芝、NEC、富士、东京电子等日本顶尖的科技企业发展半导体技术，提升日本半导体全产业链的竞争力。
尼康和佳能承担光刻机项目的研发，本身这两家企业就是传统的光学巨头，拥有制造光学镜头及工业设备的技术工厂，再加上日本的东京应化、富士公司所制造的配套材料，尼康率先完成了光刻机的整机研发并交付给东芝等企业制造芯片，佳能紧随其后。
而且尼康等企业注重客户服务，在售卖光刻机的同时还附赠工程师的服务包，提供部分技术支持。这让尼康开始在国际市场上生根发芽，那些被美国光刻机企业冷落的国际客户纷纷开始转向采购尼康的光刻机设备。
随着尼康市场份额的不断扩大，美国光刻机企业的市场份额随之下滑，再加上美国GCA等企业常年狂妄傲慢的态度，让其忽略了先进技术的研发，最终将光刻机市场拱手让给了尼康和佳能。
整合技术
从2000年开始，ASML异军突起，凭借着浸润式技术开始抢夺尼康和佳能的光刻机市场。
尼康和佳能这种传统的巨头企业，都拥有独立开发并制造光学镜头的能力，并且其光刻机的大部分零件均来自于日本本土的供应链体系。
反观ASML，其光刻机的大部分零件需要依赖于全球供应链的支持，并且ASML也没有尼康、佳能那种独立制造光刻机镜头的能力，完全就是一个方案的整合商。
就是这么一个技术方案的整合商，却成为了如今光刻机产业尖端技术的唯一选手。
ASML的看家技术就两个，一个是对准系统，一个是整合技术。
2002年，台积电工程师林本坚开发了浸润式技术，在镜头和光刻胶之间加入超纯水，193nm的波长打入水中形成折射，波长缩短至134nm。此时的尼康正在通过提升镜头的硬件素质，试图将193nm的波长缩短至157nm，制造更先进的芯片。
林本坚带着浸润式技术寻求合作，尼康已经在157nm波长上投入太多资源，直接拒绝了林本坚的方案。而ASML选择与林本坚合作，开发出了后来划时代的浸润式光刻机。
而真正让ASML通吃市场的产品，则是拥有双工作台（代号NXT）的“TWINSCAN”系列光刻机。
TWINSCAN NXT：1950i，这是ASML第一款支持双工作台的浸润式光刻机。
该设备可以并行处理两枚晶圆，一边进行曝光，另一边进行测量，并且ASML的晶圆对准系统很强大，这直接提升了光刻机的制造效率。ASML后续制造的EUV光刻机，也是采用了这种技术体系。
在制造浸润式光刻机的同时，ASML还与美国达成合作，共同推进EUV技术的落地。
并且ASML的供应链全都是世界顶级的存在，德国蔡司是ASML全球唯一的镜头及曝光系统供应商。尽管在某些关键技术上依赖于单一供应商的风险很大，但是除德国蔡司之外，其他企业并没有能力制造出足以商业化的整套EUV曝光系统。
荷兰半导体观察者马克·海金克指出，当ASML将EUV设备成功量产之后，尼康在EUV领域的胜算已经几乎没有了。其他竞争对手可以尝试挑战ASML的EUV技术，但是想要跟ASML一样量产商用，目前还未看到有竞争者成功过。
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