苏大维格（300331）披露2025年年度报告。报告期内，公司全年研发投入达1.87亿元，同比增长28.97%，占营业收入比例9.17%。过去五年，公司研发投入复合增长率为7.67%。

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制图：金融界上市公司研究院；数据来源：巨灵财经

研发投入变化背后，公司当期研发人员为401人，较上期的408人同比下滑1.72%，占总人数比例为17.67%，上期该比例为20.26%。

财报显示，公司长期深耕微纳制造领域技术研发，自主研发微纳光学关键制造设备激光直写光刻机和纳米压印光刻机，建立了微纳光学研发与生产制造的基础技术平台体系，相继开发多个系列覆盖纳米级和微米级的激光直写光刻设备与压印设备，核心直写光刻、纳米压印技术拥有自主知识产权。报告期内公司重点推进激光直写光刻机在高端掩模制造、先进封装以及投影扫描光刻设备在光伏铜电镀图形化等领域的技术落地，同时积极推进虚实融合透明显示、光栅及光栅尺、VR/AR、AR-HUD、光场屏、光场空间成像、光子芯片、光通信器件、光学物镜系统等超精密微纳光学器件的研发验证与商业化落地。

年报信息显示，该公司是一家国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，为客户提供不同用途微纳光学产品的设计、开发与制造服务，已发展形成公共安全和新型3D印材、消费电子新材料、高端智能装备、反光材料四大事业群，产品广泛应用于公共安全防伪、包装、消费电子、汽车、半导体、光伏、新型显示等多个领域。

2025年，公司实现营业总收入20.40亿元，同比增长10.82%；归母净利润-0.19亿元，同比增长68.09%；扣非净利润-7375.23万元，同比增长21.89%；经营活动产生的现金流量净额为2.14亿元，同比增长4.78%。

市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于巨灵数据内容生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：智研