北京大学研究团队近日在芯片设计软件(EDA)领域取得新突破,发布了一款面向“真3D”(true-3D)集成的EDA工具原型,为华为“逻辑折叠(Logic Folding)”等下一代先进芯片架构提供关键设计支撑。
EDA(电子设计自动化)是芯片流片前用于设计、验证与优化的核心软件,长期以来全球市场主要由国外的EDA三巨头所主导。随着先进芯片研发持续向3D集成演进,国产EDA自主化的重要性进一步提升。
近日,华为披露了以“逻辑折叠(Logic Folding)”为核心的“韬(τ)定律”技术路线。与传统通过持续缩小晶体管尺寸推进性能提升的方式不同,该路线更强调通过三维重构、互连优化与信号传输效率提升,实现芯片整体性能突破。
不同于传统die-to-die堆叠,逻辑折叠并非简单将不同模块堆叠,而是在设计阶段就将同一模块内部的逻辑细化到标准单元级(standard-cell level),分布到多层垂直堆叠晶圆之中,并通过微米/亚微米级face-to-face混合键合直接打通关键路径。
这一全新架构,也对EDA工具提出了更高要求。
传统2D EDA流程,以及现有“赝3D(pseudo-3D)”设计方式,本质上仍是先将模块固定到不同die,再分别使用二维EDA工具逐层实现,无法充分释放逻辑折叠的潜力。
北京大学团队此次研发的则是一套“真3D(true-3D)”EDA工具原型。与传统流程不同,该工具直接将多die堆叠视作统一的三维设计空间,在布局规划、布局与热优化阶段进行全局协同求解,允许标准单元跨die自由分布,而不再被“钉死”在某一层die之上。
在技术实现上,该工具将跨die线长、混合键合端子数量以及垂直热路径纳入统一优化框架,并通过GPU加速支持千万级实例规模设计。
根据北京大学披露的信息,该工具已经在工业级开源设计上完成系统验证,测试规模覆盖约100万至2470万个实例。相比当前主流“赝3D”设计流程,可实现平均约30%的线长缩减,同时带来约6%的WNS(Worst Negative Slack)改善与约12%的TNS(Total Negative Slack)改善。
“赝3D(pseudo-3D)”流程 (上图)vs “真3D(true-3D)”流程(下图):模块级划分 vs 模块内划分
在热优化方面,联合热感知优化后,芯片峰值温度平均下降3%以上,而线长几乎没有额外损失。
EDA被视为半导体产业链最关键的软件基础设施之一。近年来,美国曾多次对中国EDA软件实施出口限制,也进一步推动国内产业界与高校加速自主EDA体系建设。
北京大学表示,未来团队还将继续扩展真3D时序分析、布局规划与布局引擎能力,进一步面向多die堆叠、异构工艺节点以及更复杂3D-IC场景,构建下一代3D芯片设计基础设施。
对于华为而言,逻辑折叠与“韬(τ)定律”被视为先进芯片研发的重要新方向,但其落地仍需EDA、封装、材料、制造等多个环节协同推进。
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