国家知识产权局信息显示，理想万里晖半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“PECVD设备以及电池片钝化方法”的专利，公开号CN122235695A，申请日期为2026年5月。

专利摘要显示，本发明公开PECVD设备以及硅片钝化方法。所述PECVD设备包括反应腔以及射频电源，所述反应腔包括基台、竖直设置在所述反应腔中的电极板以及载片盒，载片盒用于置放多个层叠的硅片，并用于放置在所述基台的预定位置上，使得所述载片盒进入反应腔后能排布在所述电极板两侧，所述载片盒具有使多片层叠硅片的待钝化侧边朝向电极板的开口；其中，所述射频电源与所述电极板电性连接，所述载片盒以及所述基台接地，导入所述反应腔中的反应气体经解离形成等离子体后沉积在所述硅片与电极板相邻的待钝化侧边上。本发明能避免绕镀，能缩短工艺时间、降低工艺温度、提高设备效率，并能降低碎片率。

天眼查资料显示，理想万里晖半导体设备（上海）股份有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本23512.8795万人民币。通过天眼查大数据分析，理想万里晖半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目9次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息139条，此外企业还拥有行政许可50个。

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作者：情报员