国家知识产权局信息显示，莫福托尼克斯控股有限公司申请一项名为“用于压印期间原位层厚度控制的方法和系统”的专利，公开号CN122249768A，申请日期为2024年10月。

专利摘要显示，本发明涉及一种用于压印（特别是纳米压印）期间原位层厚度控制的方法和系统，其能够控制压印产品的残余层厚度。该方法包括以下步骤：提供基底、基本上柔性的印章和配置用于向柔性印章和/或基底施加压力的辊子，将树脂施加到该印章和/或该基底上，压印，固化以及分离该柔性印章和该基底，其中该方法提供了对残余层厚度的控制。

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作者：情报员