国家知识产权局信息显示，ASM IP私人控股有限公司申请一项名为“可流动膜沉积方法和系统”的专利，公开号CN122256935A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，公开了适用于气相工艺的方法和系统。示例性方法包括通过将顶表面暴露于处理气体和真空紫外辐射来处理衬底的顶表面以形成经处理的表面，并通过提供前体和反应物来沉积可流动材料以形成沉积材料。该方法还可以包括通过提供固化气体和真空紫外辐射来处理沉积材料的顶表面。方法和系统可用于在包括高高宽比特征的衬底表面上获得沉积材料的期望轮廓。

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作者：情报员