国家知识产权局信息显示,东莞高伟光学电子有限公司申请一项名为“一种校正方法、装置、设备、介质及产品”的专利,公开号CN122340254A,申请日期为2026年4月。
专利摘要显示,本发明公开了一种校正方法、装置、设备、介质及产品。校正方法涉及光学模组生产主动对准校正技术领域,该方法包括:控制第一传感器传送平台带动图像传感器移动至第一位置;控制第二传感器传送平台带动波前传感器移动至第一位置,并基于波前传感器采集的第二图像确定基准泽尼克系数;控制主动校准夹爪进行多次倾斜,并根据每次倾斜后,波前传感器采集的第三图像和基准泽尼克系数,确定灵敏度参数和偏移量;根据基准泽尼克系数、灵敏度参数和偏移量,构建目标模型;控制第二传感器传送平台带动波前传感器移动至第二位置,基于当前垂直倾斜系数、当前水平倾斜系数和目标模型,确定目标倾斜角;基于目标倾斜角进行校正。
天眼查资料显示,东莞高伟光学电子有限公司,成立于2002年,位于东莞市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本48383.19万美元。通过天眼查大数据分析,东莞高伟光学电子有限公司共对外投资了6家企业,参与招投标项目13次,财产线索方面有商标信息9条,专利信息383条,此外企业还拥有行政许可75个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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