国家知识产权局信息显示，深圳市幻影光学有限公司申请一项名为“一种反射式光栅的制备方法及反射式光栅”的专利，公开号CN122386458A，申请日期为2026年6月。

专利摘要显示，本发明涉及一种反射式光栅的制备方法及反射式光栅，其中反射式光栅的制备方法包括如下步骤：将覆铜板裁切成板料后，在所述板料的铜箔面贴合感光干膜；通过激光成像或菲林曝光的方式，在所述感光干膜上固化形成光栅图形，得第一板材；将所述第一板材浸入显影液中，得到包含所述光栅图形的第二板材；化学蚀刻去除所述第二板材上的多余铜箔形成光栅铜箔图形并剥离残余感光干膜。本发明提供的反射式光栅的制备方法可以利用成熟的印刷电路板产线进行生产，效率高，原材料价格低廉，采用激光成像或菲林曝光形成光栅图形再蚀刻，光栅条纹精细度高且纹理清晰，实现了反射式光栅的高精度、低成本和高效率的生产。

天眼查资料显示，深圳市幻影光学有限公司，成立于2025年，位于深圳市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市幻影光学有限公司专利信息1条，此外企业还拥有行政许可1个。

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作者：情报员