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英特尔已开始使用 ASML 的下一代高数值孔径（HighNA）极紫外（EUV）光刻机——该设备可将电路图案印刷到微芯片上——用于生产部分PantherLake处理器。

7月15日，财闻海外资讯消息，全球光刻机巨头阿斯麦（ASML.US）表示，英特尔（INTC.US）已决定采用该公司的高端设备来生产部分旗舰级Panther Lake系列笔记本芯片，此举将有助于这家芯片制造商更高效地运用该制造工具。

ASML表示，英特尔已开始使用 ASML 的下一代高数值孔径（HighNA）极紫外（EUV）光刻机——该设备可将电路图案印刷到微芯片上——用于生产部分PantherLake处理器。

该公司采用其18A制造工艺生产Panther Lake芯片，并已使用标准 EUV 光刻设备进行生产。光刻技术是利用光线在芯片表面绘制构成电路的复杂图案的工艺。

业界一直在争论何时开始部署高数值孔径（High NA）技术工具才具有经济合理性；未来芯片制造商在持续缩小构成芯片的原子级特征尺寸时，很可能仍会需要这些工具。高数值孔径（High NA）设备成本约为4亿美元，是标准 EUV 设备价格的两倍。该设备在技术上也难以顺利应用于生产流程。