国家知识产权局信息显示，西默有限公司申请一项名为“DUV激光器中实时时间积分平方（TIS）及散斑对比度（SC）控制的系统与方法”的专利，公开号CN122439128A，申请日期为2024年11月。

专利摘要显示，一种光源装置，包括被配置为输出光束的气体放电级和被配置为接收光束的一部分并在时域中测量光束的TIS脉冲宽度的时间积分平方（TIS）装置。TIS装置被配置为基于所测量的TIS脉冲宽度来计算光束的散斑对比度（SC）。TIS脉冲宽度是实时或近实时测量的。计算出的SC可以被提供给光刻装置以减少光刻过程中的误差。有利地，该装置可以实时测量TIS脉冲宽度，实时计算SC，调整SC的一个或多个参数以控制SC，减少光刻过程中的误差，执行光源装置的诊断，以及标识光源装置的最佳维护计划。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员