国家知识产权局信息显示，松山湖材料实验室;中色创新研究院（天津）有限公司申请一项名为“磁电化学抛光装置、合金带材双面抛光的装置系统及方法”的专利，公开号CN122466544A，申请日期为2026年5月。

专利摘要显示，本发明提供磁电化学抛光装置、合金带材双面抛光的装置系统及方法，所述磁电化学抛光装置包括电解液循环槽以及设置在电解液循环槽中的电磁铁和电极；所述电磁铁包括依次连接的第一部、第二部、第三部和导电线圈，所述第一部和第三部相对设置，所述第二部分别与第一部和第三部垂直设置；所述第一部、第二部和第三部均为磁铁材质，所述导电线圈缠绕设置在第一部和第三部处；所述电极设置在所述第一部和第三部之间的区域；所述电极包括第一子电极和第二子电极；所述第一子电极和第二子电极设置在合金带材的两侧。本发明能够避免边缘过抛的情况，提高抛光均匀性，应用前景广阔。

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作者：情报员