御微半导体今日宣布，其自主研发的国内首款可完整覆盖90nm至28nm制程节点的掩模图形缺陷检测设备Raptor-600，已正式发运国内头部晶圆厂。

掩模版作为芯片光刻环节的核心母版，其品质直接影响整片晶圆的生产良率。即便是细微的图形缺陷，也有可能导致整批晶圆全部报废。

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该设备具备分辨精细图形、规避辅助图形干扰的能力，可快速检出图形缺损、表面污染物等多种问题。同时，设备适配掩模制造厂与晶圆厂两大场景，满足全流程品质管控需求。

据官方介绍，从2025年初初代机型Raptor-500交付落地算起，经过一年多现场产线迭代打磨，Raptor-600完成了全方位技术升级更新。核心升级包括：自研高分辨率透反射双光路紫外成像系统，可同步捕捉各类影响掩模及光刻良率的缺陷；搭载纳米级高精度运动平台，保障检测定位达到微米级稳定精度；配套超大图像并行计算引擎，缺陷识别速度与适配性大幅提升。

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