国家知识产权局信息显示，紫威科技（北京）有限公司申请一项名为“一种基于梯度带隙纳米复合界面工程的深紫外高损伤阈值光学薄膜及其制备方法”的专利，公开号CN122488273A，申请日期为2026年4月。

专利摘要显示，本发明公开了一种基于梯度带隙纳米复合界面工程的深紫外高损伤阈值光学薄膜及其制备方法，包括梯度带隙纳米复合过渡层GBN-TL，所述梯度带隙纳米复合过渡层设置于氧化物层与氟化物层的界面处，所述梯度带隙纳米复合过渡层由高折射率氧化物、宽带隙氧化物和氟化物三种材料组成，沿膜层生长方向，组分从高折射率氧化物-rich渐变至宽带隙氧化物-rich，最终渐变至氟化物-rich，形成连续的带隙梯度。本发明能够同时解决缺陷诱导损伤、吸收主导损伤和界面耦合损伤等问题。具有损伤阈值显著提升、长期稳定性增强、光学损耗保持低位、工艺可实施性强等优点。

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作者：情报员