国家知识产权局信息显示，浙江大华技术股份有限公司申请一项名为“光学视窗的制备方法及光学视窗”的专利，公开号CN122488282A，申请日期为2026年4月。

专利摘要显示，本申请公开一种光学视窗的制备方法及光学视窗，方法包括：在基材的第一表面形成第一膜组，第一膜组包括设置在基材一侧的第一膜层以及在第一膜层背离基材一侧交替层叠的多个第二膜层和多个第三膜层，其中，第一膜组中多个第二膜层的厚度以非周期性变化，第一膜组中多个第三膜层的厚度以非周期性变化；在基材的第二表面形成第二膜组，第二膜组与第一膜组的膜层材料、层叠顺序相同。本申请在制备的光学视窗的过程中，设置第一膜组中第二膜层和第三膜层的厚度均以非周期性方式变化，使得膜系在不同波长范围内产生多样化的干涉效应，从而使得制成的光学视窗可对宽光谱范围的灵活调控，满足需要多波段选择性反射、透射或吸收的应用需求。

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作者：情报员