国家知识产权局信息显示，青岛方益技术有限公司申请一项名为“一种光罩异物去除方法”的专利，公开号CN122488425A，申请日期为2026年5月。

专利摘要显示，本发明的光罩异物去除方法首先提供一具有异物的光罩，光罩包括透光区及与透光区相邻的遮光区。然后检测透光区上待去除异物的高度。接下来当待去除异物的高度低于100 nm时，在待去除异物的表面沉积形成包裹层，以提高待去除异物的整体高度，从而形成复合异物。最后采用原子力显微镜探针，对复合异物施加机械力，将复合异物从透光区推挤至遮光区。本发明的光罩异物去除方法通过“检测-包裹-推挤”三步协同作用，以气相沉积辅助原子力显微镜的方式，实现了对光罩透光区高度<100 nm的异物的高效、无损、无污染去除。

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作者：情报员