国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司、重庆京东方光电科技有限公司、湖北兴福电子材料股份有限公司申请一项名为“一种半导体显示金属叠层选择性可控的蚀刻液及蚀刻方法”的专利，公开号CN122483793A，申请日期为2026年3月。

专利摘要显示，本发明涉及一种半导体显示金属叠层选择性可控的蚀刻液及蚀刻方法。所述蚀刻液包括磷酸、硝酸、醋酸、硝酸盐、羧酸盐、有机酸、含苯二胺类化合物、电化学平衡剂和去离子水。通过调节各组分含量，可实现对钼/铝叠层金属蚀刻速率的选择性调控，改善蚀刻形貌，消除色差，防止布线断线。本发明还提供了采用该蚀刻液的喷淋蚀刻方法，适用于高世代显示基板。本发明具有组分兼容性强、蚀刻可控性高、均匀性好等优点，适用于手机、笔记本、车载显示器等半导体显示器件的制造。

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作者：情报员