国家知识产权局信息显示，北京京东方光电科技有限公司、京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“平板探测器背板、平板探测器及制备方法”的专利，公开号CN122497132A，申请日期为2026年4月。

专利摘要显示，本申请涉及光电检测技术领域，具体提供一种平板探测器背板、平板探测器及制备方法，旨在解决现有的X射线平板探测器的膜层较多导致生产成本较高的技术问题。为此目的，本申请的平板探测器背板通过将部件分别形成在相对设置的第一基板和第二基板上，如在第一基板上形成薄膜晶体管和并置的PIN器件，在第二基板朝向第一基板的第一表面设置的凹槽与PIN器件的顶电极一一对准，每个顶电极嵌入在对应的凹槽中；或将PIN器件和薄膜晶体管分别形成在第一基板和第二基板上。两种方案均不必考虑现有制作工艺中在薄膜晶体管和PIN器件形成后还需要多道掩膜工艺形成缓冲层、树脂层、钝化层等层结构，减少了掩膜工艺，能够简化膜层数量，有利于降低生产成本。

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作者：情报员