美光位于纽约州克莱的巨型晶圆厂项目，再度因环境争议站上被告席。反对该项目的组织“更好的美光邻居”和“美国就业转移组织”近日提起新诉讼，矛头直指纽约州环境保护部门此前批准的废水与空气排放许可证。

原告方在上周五提交的诉状中称，这些许可证将允许美光向附近的奥奈达河排放含有PFAS的污染物。PFAS即全氟和多氟烷基物质，也被称为“永久化学物质”，因在自然环境中极难降解而得名，贯穿芯片制造的多个环节。

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诉状的核心指控是，许可证的发放流程存在重大缺陷。原告指出，当美光项目依据《纽约州环境质量审查法》进行审查时，已经确认了包括PFAS释放等重大环境影响，但在最终批准前，相关部门并未完成全面且有意义的评估。原告认为，DEC将关键分析、控制措施和污染缓解决策推迟至许可证发放之后，或留待未来的法规和研究再来处理。此次诉讼将纽约州DEC、美光以及项目所在地奥农达加县三方一同列为被告。

针对具体的排放许可内容，原告批评其管理强度严重不足。诉状指出，美光获得的SPDES许可证允许接收并排放其含有PFAS等新兴污染物的工业废水，但除了要求监测这些有害物质的存在和浓度外，并未施加任何实质性的控制手段。原告将这些漏洞描述为“并非无关紧要的程序性或技术性遗漏”，并主张这些许可证根本不能算作常规的运营批准文件。

值得注意的是，参与此次诉讼的两家环保组织并非首次就该项目起诉美光。今年1月，它们已就美光未能遵守纽约州环境审查程序提起另一项诉讼。美光在上个月向法官申请驳回该旧案，但法院仍计划于8月25日就此进行口头辩论。目前，这起新提交的诉讼尚未排定口头辩论日期。原告寻求法院撤销此前颁发的废水和空气排放许可证，迫使项目重新进入环境审查流程，并要求被告承担相关诉讼费用。