国家知识产权局信息显示，无锡先为科技有限公司取得一项名为“一种反应装置的供气通路以及半导体处理设备”的专利，授权公告号CN224596910U，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本申请公开了一种反应装置的供气通路以及半导体处理设备，反应装置包括：腔体，设有反应腔以及与反应腔连通的开口端，且开口端设有第一端面；盖体，盖体相对于腔体活动设置；腔体处于关闭状态时，盖体盖设在腔体的开口端上以密封反应腔，盖体设有与第一端面对接的第二端面；至少两个第一密封圈，设置在第一端面与第二端面之间，至少两个第一密封圈、第一端面与第二端面围设形成密封空间；其中，供气通路包括设于腔体的第一通道及设于盖体的第二通道，在腔体处于关闭状态时，第一通道与第二通道对接形成穿设密封空间的连通通道，连通通道用于向盖体输送气体，连通通道相对于密封空间密闭。本申请的设计可以提升反应装置的密封性。

天眼查资料显示，无锡先为科技有限公司，成立于2020年，位于无锡市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本11766.6667万人民币。通过天眼查大数据分析，无锡先为科技有限公司参与招投标项目6次，财产线索方面有商标信息44条，专利信息104条，此外企业还拥有行政许可7个。

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作者：情报员