国家知识产权局信息显示,科磊股份有限公司申请一项名为“真空紫外光镜”的专利,公开号CN122580592A,申请日期为2025年2月。

专利摘要显示,本发明公开一种用于反射真空紫外光的镜。所述VUV镜可包含衬底。所述VUV镜可包含沉积于所述衬底上的反射层,其中所述反射层反射100 nm到200 nm之间的波长的光。所述VUV镜可包含沉积于所述反射层上的贵金属层,其中所述贵金属层为所述反射层提供环境稳定性,且透射100 nm到200 nm之间的波长的光。

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作者:情报员