国家知识产权局信息显示，上海精测半导体技术有限公司申请一项名为“理论光谱确定方法”的专利，公开号CN122611764A，申请日期为2025年2月。

专利摘要显示，本公开是关于一种理论光谱确定方法。该方法包括：建立样品上周期性结构的结构模型；获取入射光在第一方位角下作用于周期性结构时的光特性参量；基于对光特性参量进行傅里叶级数展开的展开式获得第一级次对集合；基于预设的阈值筛选第一级次对集合获得保留的所有级次对以形成第二级次对集合；获取第一图谱，第一图谱的信息包括第一级次对集合中的各第一级次对在经筛选后的保留信息或删除信息；基于第一图谱获取具备中心对称性的目标图谱；基于目标图谱获取具备保留信息的所有级次对以形成目标级次对集合，基于目标级次对集合确定入射光在第一方位角时的理论光谱，并作为入射光在第二方位角时的理论光谱。通过本公开，能够得到更准确的理论光谱。

天眼查资料显示，上海精测半导体技术有限公司，成立于2018年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本207265.2777万人民币。通过天眼查大数据分析，上海精测半导体技术有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目239次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息240条，此外企业还拥有行政许可77个。

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作者：情报员