来源：新浪证券-红岸工作室

8月22日消息，国家知识产权局信息显示，华海清科股份有限公司申请一项名为“一种晶圆传输装置和具有该传输装置的CMP设备”的专利，授权公告号CN224659097U，授权公告日为2026年8月21日。申请号为CN202521366050.1，申请公布日期为2026年8月21日，申请日期为2025年7月1日，发明人王剑、李俊卿、李长坤，分类号B24B37/34、B24B37/10、B24B37/30、B24B27/00、B24B55/06。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种晶圆传输装置和具有该传输装置的CMP设备，涉及晶圆制造技术领域。所述晶圆传输装置包括：轨道，沿CMP设备的横向及竖向设置并位于CMP设备中；滑块，设置于所述轨道上并沿轨道移动，所述滑块上配置有晶圆夹持机构，以夹持待传输的晶圆；所述轨道至少包括水平段和竖向段，两者连接为一体，所述晶圆夹持机构借助滑块在水平段与竖向段之间移动，以实现晶圆的翻转。

华海清科是国内领先的半导体CMP设备龙头企业，拥有全产业链布局核心优势。公司成立于2013年4月10日，于2022年6月8日登陆上海证券交易所，注册及办公所在地均为天津市。

华海清科主营业务为从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务，申万行业分类隶属于电子-半导体-半导体设备领域，同时覆盖HBM概念、半导体设备、中芯国际概念三大概念板块。

2026年上半年，华海清科实现营业收入26.43亿元，在行业5家可比企业中排名第4，低于行业平均32.3亿元、行业中位数29.13亿元，同期行业头部企业中微公司、盛美上海营收分别达66.91亿元、37.18亿元；同期公司实现净利润5.63亿元，同样在5家可比企业中位列第4，低于行业平均11.44亿元、行业中位数9.89亿元，行业排名前两位的中微公司、拓荆科技同期净利润分别为27.97亿元、13.21亿元。

指标类型 统计周期 公司数值 行业排名/总样本数 行业头部企业数值 行业平均数 行业中位数 营业收入 2026年上半年 26.43亿元 4/5 第一名中微公司66.91亿元、第二名盛美上海37.18亿元 32.3亿元 29.13亿元 净利润 2026年上半年 5.63亿元 4/5 第一名中微公司27.97亿元、第二名拓荆科技13.21亿元 11.44亿元 9.89亿元

华海清科股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1一种抛光头、抛光单元和抛光设备发明专利公布CN202611079931.42026-07-21CN122584172A2026-08-18王同庆、程子政、孟松林、金军2一种数据融合方法、电涡流测量系统、抛光单元和设备发明专利实质审查的生效、公布CN202611007390.42026-07-08CN122508513A2026-08-04吴英明、王科、田芳馨3晶圆减薄方法、设备、存储介质及程序产品发明专利公布CN202611007389.12026-07-08CN122518151A2026-08-07尹国强、董跃巍、刘远航、李森、赵德文、王同庆、赵春生4一种用于化学机械抛光的修整装置和修整方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610903952.72026-06-23CN122463047A2026-07-28鲁泽坤、陈映松、王春龙、崔云鑫、曹自立5一种抛光垫更换系统和方法发明专利公布CN202610768024.42026-05-30CN122442511A2026-07-24王科、陈映松、王怀锋、李长坤、成鹏6一种抛光垫装卸装置及装卸方法发明专利公布CN202610768019.32026-05-30CN122480836A2026-07-31王科、陈映松、王怀锋、李长坤、成鹏7一种抛光垫装卸装置、设备和方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610768020.62026-05-30CN122500627A2026-08-04王科、陈映松、王怀锋、李长坤、成鹏8一种晶圆抛光方法、抛光单元和抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610705158.12026-05-21CN122248984A2026-06-19田云、辜声攀、杜新祥、马海港9一种用于化学机械抛光的承载头和化学机械抛光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610668707.22026-05-15CN122353463A2026-07-10程子政、孟松林、金军10一种晶圆后处理装置和处理方法发明专利公布CN202610622639.62026-05-08CN122476855A2026-07-28路新春、马钰皓、王剑、李长坤、刘远航11一种抛光带与晶圆缺口相对位置的检测装置和检测方法发明专利公布CN202610546525.82026-04-23CN122099962A2026-05-29周朝龙、辛宇航、郭垒、杨志冰12晶圆翻转装置、晶圆翻转方法及晶圆处理设备发明专利授权CN202610432475.02026-04-03CN121969113A2026-05-01南奇童、张龙华、张鑫、申兵兵13抛光液分布预测方法、化学机械抛光方法及设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610366890.02026-03-24CN122033825A2026-05-15张力飞、王同庆、赵南皓14晶圆加工系统、终点检测装置、方法及电子设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610348698.92026-03-20CN122253080A2026-06-23王同庆、王科、窦华成、田芳馨15晶圆清洗装置及晶圆清洗方法发明专利授权CN202610230602.92026-02-27CN121752004B2026-05-15王同庆、陈贺、刘颖、曹自立、李长坤16晶圆清洗用匀流结构、晶圆清洗装置及清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610663715.82026-02-27CN122514214A2026-08-04王同庆、陈贺、刘颖、曹自立、李长坤17化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610211064.92026-02-13CN122077513A2026-05-26路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆18晶圆化学机械抛光设备及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610203298.92026-02-12CN121870631A2026-04-17路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆、赵德文19化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610204916.12026-02-12CN121946355A2026-05-01路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆20化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610198479.72026-02-11CN121893158A2026-04-21路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆21晶圆处理装置、控制方法及化学机械抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610198513.02026-02-11CN122077512A2026-05-26路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆22一种化学机械抛光设备和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610188222.32026-02-10CN121893155A2026-04-21刘晟桤、李俊卿、李长坤、王科23晶圆化学机械抛光设备及基于晶圆状态的动态密封方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610188204.52026-02-10CN122058269A2026-05-19张海鹏、曹冠宁、范少文、王科、孙传恽、李长坤24一种化学机械抛光设备和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610182595.X2026-02-09CN121893154A2026-04-21霍恩彬、李长坤、李俊卿、申兵兵、王剑25一种具有小体积气液分离箱的晶圆处理设备及晶圆处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610049289.92026-01-15CN121513539A2026-02-13陈贺、姚福聪、曹自立、李长坤26抛光方法、电子设备及存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202610009656.22026-01-06CN121608055A2026-03-06王同庆、吴兴、李长坤、李俊卿、王科27抛光装置和晶圆加工设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610009659.62026-01-06CN121848277A2026-04-14路新春、吴兴、王同庆、李俊卿、李长坤28晶圆修边装置、晶圆加工设备及加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511925734.52025-12-19CN121729009A2026-03-24路新春、王同庆、赵德文、刘远航、请求不公布姓名、鲍伟成29晶圆边缘动态修整方法和晶圆修边装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511925732.62025-12-19CN121848541A2026-04-14赵德文、高亚磊、李森、刘远航、欧阳亮30晶圆修边装置、晶圆加工设备及加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511923156.12025-12-19CN121925066A2026-04-24刘远航、请求不公布姓名、鲍伟成、赵德文、路新春31晶圆边缘修整方法、边缘修整装置和加工设备发明专利公布CN202511830466.92025-12-06CN121649858A2026-03-13欧阳亮、高亚磊、王玉、檀广节32一种用于化学机械抛光的承载头和抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511830467.32025-12-06CN121715974A2026-03-24王宇、刘宏伟、孟松林、金军、张洪蛟33一种晶圆处理设备、空气洁净度控制方法和空气清洁系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511830465.42025-12-06CN121756222A2026-03-31王同庆、孙传恽、张丛34一种用于电化学机械抛光的承载头和抛光装置发明专利公布CN202511789495.52025-12-01CN121821233A2026-04-10刘二朋、王浩、王国栋、许振杰35一种修整盘装卸装置、智能维护系统和方法发明专利发明专利申请公布后的视为撤回、公布CN202511718719.32025-11-21CN121670521A2026-03-17王科、李丹、陈映松、王怀锋、成鹏36一种晶圆抛光方法、抛光单元和处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511696760.52025-11-19CN121447528A2026-02-03路新春、江鹏、周斌、谭锐37一种化学机械抛光装置、抛光设备和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511680481.X2025-11-17CN121608057A2026-03-06曹自立、李长坤38一种晶圆后处理装置、抛光设备和抛光方法发明专利公布CN202511680510.22025-11-17CN121693049A2026-03-17曹自立、李长坤39晶圆划切设备、晶圆加工方法及控制装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511649635.92025-11-12CN121340478A2026-01-16刘远航、鲍伟成、朱林、赵德文、路新春40一种弹性膜、承载头、化学机械抛光设备和方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511629574.X2025-11-08CN121179339A2025-12-23王宇、张浩、左少杰、金军、张洪蛟41一种晶圆膜厚测量方法、装置和化学机械抛光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511553470.52025-10-29CN121104883A2025-12-12窦华成、田芳馨、王科42抛光装置和晶圆加工设备发明专利发明专利申请公布后的撤回、实质审查的生效、公布CN202511556082.22025-10-29CN121132497A2025-12-16路新春、吴兴、王同庆、李俊卿、李长坤43抛光方法、电子设备及存储介质发明专利发明专利申请公布后的撤回、实质审查的生效、公布CN202511556080.32025-10-29CN121132496A2025-12-16王同庆、吴兴、李长坤、李俊卿、王科44一种方形承载头和化学机械抛光系统发明专利授权CN202511524648.32025-10-24CN121004541B2026-02-06程子政、孟松林、金军45一种晶圆清洗装置、清洗方法和处理设备发明专利公布CN202511361499.32025-09-23CN121018398A2025-11-28张丰达、王剑、李长坤46一种用于化学机械抛光的承载头及抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511270350.42025-09-08CN120862556A2025-10-31刘鑫博、李润豪、金军、张洪蛟47一种用于化学机械抛光的承载头及抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511270348.72025-09-08CN120862555A2025-10-31刘鑫博、李润豪、金军、张洪蛟48一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头发明专利公布CN202511270349.12025-09-08CN120985523A2025-11-21刘鑫博、李润豪、金军、张洪蛟49一种用于化学机械抛光的承载头及抛光系统实用新型授权CN202521918936.22025-09-08CN224575386U2026-07-31刘鑫博、李润豪、金军、张洪蛟50晶圆修边装置及晶圆加工设备实用新型授权CN202521842963.62025-08-28CN224575925U2026-07-31刘远航、请求不公布姓名、鲍伟成、赵德文、路新春