近日，荷兰媒体报道称，美国国会推动的MATCH 法案如果最终落地，可能进一步迫使荷兰收紧对华半导体设备出口，不仅涉及ASML向中国销售部分DUV光刻机，还可能影响已经售出的设备维护、服务和软件支持。
荷兰贸易大臣已经公开表达反对，认为美国通过国内法律对盟友实施域外约束并不可取。但问题在于：荷兰反对，不代表美国就会停下来。
这一次美国盯上的，已经不是EUV，而是中国目前还可以可以买到，而且大量用于成熟制程的DUV设备。
很多人一提光刻机，首先想到EUV。但对于中国半导体产业而言，DUV的重要性同样巨大。
EUV主要服务于最先进的芯片制造，而DUV尤其是193nm浸没式光刻机，则广泛应用于成熟制程，同时通过多重曝光等工艺，也能够参与先进节点制造。
此前，ASML最先进的EUV设备已经无法出口中国；荷兰也在美国压力下逐步扩大对部分先进DUV设备的出口限制。2023年荷兰就已经对部分先进DUV实施许可证制度，而MATCH法案会进一步向前推进使荷兰、日本等盟友对特定半导体设备实施与美国类似的限制，其中就包括浸没式DUV光刻机，并可能限制对已经交付设备的维护和服务。
这就完全不一样了，以前是不给你最先进的设备，现在可能变成连你正在使用的设备，也要限制维修。
所以今天的问题就变得非常微妙：ASML想做中国生意，但美国可以通过供应链和出口管制影响ASML。这也是为什么荷兰政府一边表示反对，一边又不得不听从美国。
对ASML而言，中国市场非常重要。据ASML官方披露数据显示，2025年其按设备发货地计算的系统销售中，中国占比达到33%，是最大的单一地区。
如果MATCH法案进一步限制DUV销售，同时限制存量设备维护，那么对ASML而言，损失的不仅仅是新机器订单。还有一个非常重要的业务：服务。光刻机不是卖出去就结束了，一台价值极高的光刻机进入晶圆厂之后，需要长期维护、升级、校准和技术支持。如果连这些服务都被限制，那么中国市场对于ASML的价值将被进一步压缩。
历史已经反复证明：外部限制越往产业链深处推进，国产替代的动力往往越强。当然，不能简单认为禁了ASML，中国马上就能造出同等水平的光刻机，这不现实。光刻机是半导体制造设备皇冠上的明珠，涉及光学、机械、电子、控制、软件、材料、精密制造等大量技术领域。特别是EUV，技术壁垒极高。
但另外一个事实同样不能忽视：中国已经拥有全球规模最大的半导体制造市场之一，而且成熟制程产能庞大。如果海外设备供应进一步收紧，那么国产设备企业面对的，就不再只是有没有市场的问题，而是有没有机会成为主流供应商，这两者完全不同。
过去国产光刻机面对ASML，很多晶圆厂可能会问为什么不用成熟的进口设备？现在如果进口设备越来越难买、越来越难维护，那么问题就会变成国产设备什么时候能够真正替代？需求，会反过来推动产业进步。
美国限制ASML向中国出售光刻机，看起来是在限制中国。但从更长的时间尺度看，它实际上是在逼着整个中国半导体产业重新计算一笔账：如果今天买不到，明天怎么办？如果设备不能进口怎么办？如果核心零部件被卡住怎么办？如果软件授权被取消怎么办？如果设备坏了，却没有原厂工程师维修怎么办？答案只有一个：自己做。
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