国家知识产权局信息显示，天合光能股份有限公司申请一项名为“单晶硅埚底料的清洗方法”的专利，公开号CN122647094A，申请日期为2025年2月。

专利摘要显示，本发明涉及硅料提纯技术领域，具体提供一种单晶硅埚底料的清洗方法。旨在解决现有技术中由埚底料清洗回收的硅料的清洗回收处理时间长，且所回收的硅料的纯度低的问题。为此，本发明的单晶硅埚底料的清洗方法包括酸浸泡、混合酸清洗和水洗，在所述酸浸泡步骤之前，所述清洗方法还包括将待处理的埚底料进行等离子体预处理。本申请的清洗方法通过对埚底料进行等离体预处理，在石英表面增加表面硅烷醇基团，从而在氢氟酸溶液浸泡埚底料的过程中，硅烷醇基团作为反应中心能够促进石英与氢氟酸的反应，提高反应速度，进而节省时间，提高清洗效率。

天眼查资料显示，天合光能股份有限公司，成立于1997年，位于常州市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本234256.7686万人民币。通过天眼查大数据分析，天合光能股份有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目7261次，财产线索方面有商标信息781条，专利信息4995条，此外企业还拥有行政许可47个。

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作者：情报员