国家知识产权局信息显示，磊菱微纳精密科技（江苏）有限公司申请一项名为“基于半导体抛光的反馈控制优化方法及系统”的专利，公开号CN122655029A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明提供了基于半导体抛光的反馈控制优化方法及系统，涉及半导体技术领域，所述方法包括：对半导体机械抛光进行多源实时感知融合，构建多物理场耦合信号数据集进行数字孪生动态分析，生成晶圆表面形貌演化预测序列进行强化学习，制定工艺参数调整策略模拟执行工艺参数调整策略进行预演分析，生成工艺参数决策轨迹，生成工艺参数执行微调指令，对半导体进行抛光闭环回归分析，按照分析结果进行迭代反馈控制优化，生成反馈控制优化方案。解决了现有技术存在抛光过程实时监测与预测精度低，导致晶圆平整度差、非均匀性高的技术问题。通过多物理场感知和强化学习分析，提高晶圆形貌预测精度，改善抛光均匀性与平整度的技术效果。

天眼查资料显示，磊菱微纳精密科技（江苏）有限公司，成立于2021年，位于南通市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本6298.6972万人民币。通过天眼查大数据分析，磊菱微纳精密科技（江苏）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息26条，此外企业还拥有行政许可17个。

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作者：情报员