国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“蒸镀源、真空沉积系统以及制造有机显示装置的方法”的专利，公开号CN122663323A，申请日期为2024年2月。

专利摘要显示，描述了一种被配置为在用于显示器制造的基板上沉积金属层的蒸镀源，所述基板具有第一尺寸以及所述第一尺寸的第一区段和所述第一尺寸的第二区段。所述蒸镀源包括第一蒸镀器，所述第一蒸镀器被配置为沉积第一金属材料。所述第一蒸镀器包括：至少第一坩埚，所述至少第一坩埚被配置为蒸镀所述第一金属材料；第一蒸气分配管道部分，所述第一蒸气分配管道部分与所述第一坩埚流体连通，并且被配置为沿着所述第一区段沉积所述第一金属材料；第一密封件，所述第一密封件耦接到所述第一坩埚，并且被配置为提供与所述第一蒸气分配管道部分的流体连通；第二蒸气分配管道部分，所述第二蒸气分配管道部分被配置为沿着所述第二区段沉积所述第一金属材料；以及第二密封件。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员