IT时代网9月1日消息，ASML在半导体大会上披露了High NA EUV光刻机的最新进展。目前全球已有4家客户投入10台High NA EUV设备，另有3台正在出货安装。

这10台设备主要分布在韩国、美国、欧洲与中国台湾地区，采购方基本是英特尔、三星、SK海力士与台积电，欧洲一台属于比利时微电子研究中心IMEC，用于EUV技术研发。已投产的10台High NA EUV累计生产了135万片晶圆，EXE:5200B型号吞吐率达到每小时135片，ASML称已达到量产标准。

不过设备可用率目前为84%，ASML计划年底提升至90%，并朝93%目标推进。路线图显示，下一代EXE:5400E将把EUV光源功率从600瓦提升到1000瓦，进一步抬升产能。作为对照，DUV光刻机目前产能可达每小时300至400片，EUV生态仍有不小提升空间。

打开网易新闻 查看精彩图片

注：本文中包含AI辅助创作的内容。