国家知识产权局信息显示，圆益IPS股份有限公司申请一项名为“等离子体源及基板处理装置”的专利，公开号CN122766894A，申请日期为2024年10月。

专利摘要显示，根据本发明的一观点的等离子体源包括：反应主体，包括至少一个主体部，在所述主体部内部形成环形通道，所述环形通道形成为气体扩散空间，为使从外部供应的工艺气体向所述环形通道喷射，在所述主体部的上面中至少区分为第一区域及第二区域的导入区域内形成至少一个进气部；磁芯部，配置成一个以上，以包围所述主体部的一部分；绝缘部，至少一个结合于所述主体部的一部分；绕组部，配置成缠绕所述磁芯部，并且从电源部接收供电，以在所述磁芯部内感应磁力；所述进气部的中心形成在所述第一区域或者所述第二区域内；其中，在从上部俯视所述环形通道时，以所述磁芯部位于X轴为准，所述进气部的中心可形成在所述第一区域及第二区域。

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作者：情报员