真空晶圆退火炉的加热方式使用高能量红外灯和镀金反射方式，允许高速加热到高温。反射镜具有曲率，采用5轴加工系统加工，以提高反射率。反射镜有两种类型，一种是圆形的，一种是抛物线型的，它们适合各种材料在温度控制条件下的测试。红外真空反射炉反射原理图展示了红外线经反射面汇聚后作用于加热区域。红外灯辐射光谱分布图给出了不同额定电压下红外灯的光谱，包括额定电压100%、75%、50%、20%时的光谱。
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与管式炉或马弗炉相比，红外线反射退火炉节省了升温时间、保持时间及自然冷却到室温所需时间。试验中也可以改写设定温度值。与高频炉相比，不需要特殊的安装条件及对加热试样的要求。与电阻炉一样安装简单，有冷却系统安全可靠。设备可组成均热高速加热炉、温度斜率炉、阶段加热炉。
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用石英管保护加热式样，无气氛污染。可在高真空高纯度气体中加热。加热与降温速度较快，温度分布可控制。该加热方式用于半导体晶圆退火、陶瓷退火、金属热处理等。
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