真空晶圆退火炉的温控系统采用PID温度控制，同时采用移相触发技术保证试验温度，确保±1℃的均匀性。设备采用多区独立控温补偿边缘热损失，使加热区域温度分布更均匀。根据设备上的温度控制器输入参数，可以简单输入温度程序设定和外部信号。也可以在电脑上显示加热中的温度数据。
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自适应热电偶包括JS、K、J、T、E、N、R、S、B以及L、U、W型。可设定32个程序、256个步骤的程序。30A、60A、120A内置了SCR电路，所以适用范围较广。温度控制重复性为±1℃。温度均匀度在500℃以下为±5℃，在500℃以上为±1%。温控方式为快速PID温控。
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这些控制方式用于匀速加热、阶梯加热、循环加热等曲线。多区独立控温可以补偿样品边缘的热损失，适合晶圆、陶瓷基板、金属薄板等样品。温度程序可以设置升温和保温阶段，也可以在试验中修改设定值。温控单元与红外加热源、水冷系统配合，实现高速加热与冷却。温度数据的记录和外部信号输入为工艺分析提供条件。
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