国家知识产权局信息显示，合肥埃科光电科技股份有限公司申请一项名为“一种基于线光谱共聚焦的批量检测方法、系统及介质”的专利，公开号CN122814608A，申请日期为2026年8月。

专利摘要显示，本发明公开了一种基于线光谱共聚焦的批量检测方法、系统及介质，检测方法包括：选择任意一件待测物作为基准件，并沿基准件移动方向进行扫描；标定各位置目标驱动电压，同时统计所有位置校正至同一亮度水平时对应的亮度校正系数；逐一扫描其它待测物，在扫描时以所述目标驱动电压驱动线光源，并根据所述亮度校正系数对亮度数据进行校正，并基于校正后的亮度数据确认得到所述终止位置；输出所述校正后的亮度数据，并基于所述目标驱动电压从扫描采集的光谱数据中提取对应的深度数据。本发明通过选取基准件进行全行程标定，获得每个位置的最优驱动电压和亮度校正系数，后续同类产品直接复用标定参数，实现了一次标定、批量检测的高效模式。

天眼查资料显示，合肥埃科光电科技股份有限公司，成立于2011年，位于合肥市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本6800万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥埃科光电科技股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目28次，财产线索方面有商标信息28条，专利信息451条，此外企业还拥有行政许可19个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员