国家知识产权局信息显示，上海研润光机科技有限公司申请一项名为“一种基于外电场光谱椭偏的薄膜电光系数表征方法与系统”的专利，公开号CN122835970A，申请日期为2026年8月。

专利摘要显示，本发明公开了一种基于外电场光谱椭偏的薄膜电光系数表征方法与系统，具体涉及光学精密测量与光电材料表征技术领域，包括未施加外电场时采集薄膜样品的静态椭偏参数，构建多层光学模型反演得到薄膜厚度与静态复折射率色散曲线；施加正弦交流调制电压，以调制频率作为锁相参考信号，从椭偏仪探测信号中提取椭偏参数在调制频率处的振荡幅度；改变调制电压幅值并验证调制幅度与电压的线性关系；在静态光学模型中引入折射率微扰项，建立动态光学模型并导出椭偏参数理论调制幅度；将实测与理论调制幅度进行全局拟合，以薄膜厚度和静态折射率为固定约束，迭代求解电光系数，并通过波长扫描获得色散分布。

天眼查资料显示，上海研润光机科技有限公司，成立于2005年，位于上海市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本2200万人民币。通过天眼查大数据分析，上海研润光机科技有限公司参与招投标项目94次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息23条，此外企业还拥有行政许可3个。

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作者：情报员