国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司申请一项名为“光刻图像处理方法及相关产品”的专利，公开号CN122841354A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明提供了一种光刻图像处理方法及相关产品。处理方法包括获取目标晶圆的目标SEM图像，目标晶圆包括上层结构和下层结构；使用目标SEM图像和预先训练的预测模型生成目标晶圆的下层结构轮廓的预测图像；其中，预测模型基于残差网络构建，且通过生成对抗网络训练得到。本方法预测模型能够有效捕捉SEM图像中复杂上、下层结构轮廓与多尺度结构的特征，在保持训练稳定性的同时提取到更高层级的结构特征，进而显著提升被遮挡的下层结构轮廓的识别准确性，并输出结构连续、边缘清晰、与设计版图一致性更高的下层结构轮廓的预测结果，有效提升了半导体多层结构图像的可解析性。

天眼查资料显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本36401.6097万人民币。通过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目56次，财产线索方面有商标信息184条，专利信息479条，此外企业还拥有行政许可18个。

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本文源自：市场资讯

作者：情报员