国家知识产权局信息显示,北京宇航高科新材料有限公司申请一项名为“融合像素对齐与上下文定制曼哈顿铁路语义分割方法”的专利,公开号CN122888235A,申请日期为2026年6月。

专利摘要显示,本发明涉及计算机视觉与图像处理领域,具体为一种融合像素对齐与上下文定制曼哈顿铁路语义分割方法。包括以下步骤:采集铁路场景图像,并将铁路场景图像输入至编码器‑解码器网络中进行特征提取,得到细节分支特征图、语义分支特征图以及边界分支特征图;将语义分支特征图输入至像素对齐交互模块,通过智能学习空间偏移图并协同双线性采样操作,隐式补偿并校准多尺度特征之间的空间偏差,得到校准语义特征图。本发明提出了一种融合像素对齐和上下文定制的曼哈顿自注意力铁路语义分割方法,通过三大核心模块协同工作,显著提升了复杂铁路场景下的图像分割精度与推理效率。

天眼查资料显示,北京宇航高科新材料有限公司,成立于1992年,位于北京市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本7963.74万人民币。通过天眼查大数据分析,北京宇航高科新材料有限公司共对外投资了5家企业,参与招投标项目49次,专利信息51条,此外企业还拥有行政许可4个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

本文源自:市场资讯

作者:情报员