国家知识产权局信息显示，宁波吉亚科技咨询有限公司申请一项名为“基于双静电场TFLN光栅和相位段外腔增强的激光器”的专利，公开号CN122907959A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明涉及半导体激光器技术领域，具体为基于双静电场TFLN光栅和相位段外腔增强的激光器，包括InP基增益芯片与单片薄膜铌酸锂（TFLN）无源光波导芯片；所述InP基增益芯片的背光端面蒸镀高反HR膜，反射率取值90%‑99%，出光端面蒸镀超低反射AR增透膜，反射率取值0.005%‑1%；所述单片TFLN无源光波导芯片光学耦合对接至所述InP基增益芯片的背光端面；所述单片TFLN无源光波导芯片为同一芯片一体刻蚀成型的连续脊背波导结构，沿光传输方向依次设置长布拉格光栅脊背波导段和无光栅脊。本发明区别于传统单一光栅电光调谐模式，两段结构独立调制、串联协同工作，分别实现相位精准补偿与波长精准匹配。

天眼查资料显示，宁波吉亚科技咨询有限公司，成立于2021年，位于宁波市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波吉亚科技咨询有限公司共对外投资了6家企业，专利信息6条。

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作者：情报员