国家知识产权局信息显示，合肥埃科光电科技股份有限公司申请一项名为“一种线阵相机超分辨率图像处理方法、系统及介质”的专利，公开号CN122905864A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明公开了一种线阵相机超分辨率图像处理方法、系统及介质，所述方法，包括：根据相邻帧LR图像的预设理论位置偏移，计算高分辨率网格中每个像素位置在各相邻帧LR图像中对应的像素坐标；提取相邻帧LR图像中所对应的像素位置的邻域整数像素，分析映射至HR图像上像素位置的等效灰度估计值并进行融合，以生成HR图像；生成相邻帧模拟LR图像；构建偏移量估计模型，以获得像素行方向和扫描移动方向上的相对偏移量；根据相对偏移量对相邻帧LR图像间的理论位置偏移进行调整，以获得相邻帧LR图像间的实际偏移位移，以便根据实际偏移位移生成更新后的HR图像。本发明通过算法与硬件的深度融合，突破了硬件物理分辨率的固有瓶颈，生成超分辨率图像。

天眼查资料显示，合肥埃科光电科技股份有限公司，成立于2011年，位于合肥市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本6800万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥埃科光电科技股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目28次，财产线索方面有商标信息28条，专利信息453条，此外企业还拥有行政许可19个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员