国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置”的专利，公开号CN122898837A，申请日期为2026年2月。

专利摘要显示，本公开涉及沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置。沉积掩模包括提供有单元开口的掩模基底和设置在掩模基底上的隔膜。隔膜具有各自包括平坦部分并通过单元开口暴露的多个凹部，并且多个像素开口中的每一个通过多个凹部中的对应一个的平坦部分限定。多个凹部中的每一个具有比多个像素开口中的对应一个的宽度大的宽度。

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作者：情报员