国家知识产权局信息显示,浙江华炬新材料科技有限公司申请一项名为“一种原位界面键合石墨烯超细铜键合丝及其制备方法”的专利,公开号CN122913504A,申请日期为2026年8月。
专利摘要显示,本发明公开了一种原位界面键合石墨烯超细铜键合丝及其制备方法,包括1)石墨烯原位羟基化改性与分散;2)真空低温除气混粉;3)冷等静压成型;4)低温真空预烧;5)梯度热等静压致密化;6)中低温热挤压;7)多道次控性拉拔;8)阶梯低温退火。本发明中,通过对石墨烯进行羟基化处理以及纳米碳点修饰处理,并与复合铜纳米片、铜粉进行混粉,复合铜纳米片与石墨烯构建有序层间嵌插堆叠原位键合结构,依托 C‑C、Cu‑O‑C多重化学键合与层间机械嵌锁作用强化界面结合、优化载荷传递、钝化裂纹扩展,同时规整的多级导电网络大幅降低界面接触电阻与晶界电阻,实现铜键合丝抗拉强度与导电率同步提升。
天眼查资料显示,浙江华炬新材料科技有限公司,成立于2026年,位于绍兴市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析,浙江华炬新材料科技有限公司专利信息1条。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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