国家知识产权局信息显示，湖北芯洁电子科技有限公司申请一项名为“一种氧化钇涂层退镀液和氧化钇涂层的退镀方法”的专利，公开号CN122918568A，申请日期为2026年9月。

专利摘要显示，本发明提供一种氧化钇涂层退镀液和氧化钇涂层的退镀方法，属于涂层退镀领域。具体而言，本发明提供的氧化钇涂层退镀液由1质量份的硝酸、2~5质量份的醋酸、320~400质量份的水组成。本发明提供的退镀液和退镀方法通过多元协同，在高效剥离氧化钇涂层的同时，不会对陶瓷基底造成损伤，可有效提高半导体设备部件的使用寿命，降低晶圆生产成本并提高晶圆良品率，可有效促进高制程半导体设备的发展。

天眼查资料显示，湖北芯洁电子科技有限公司，成立于2019年，位于黄冈市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1500万人民币。通过天眼查大数据分析，湖北芯洁电子科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息27条，此外企业还拥有行政许可8个。

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作者：情报员