国家知识产权局信息显示,长江存储科技有限责任公司申请一项名为“半导体装置及其制造方法”的专利,公开号CN122934772A,申请日期为2025年4月。
专利摘要显示,公开了一种半导体装置及其制造方法。提供了用于管理半导体装置中的光学测量标记的方法、装置、系统和技术。在一个方面中,一种半导体装置包括:第一区域,其中,第一区域包括第一半导体主体;第一电介质层,第一电介质层堆叠在第一半导体主体上;以及第一过孔结构,第一过孔结构沿第一方向延伸到第一电介质层中,其中,第一过孔结构沿第二方向和第三方向彼此间隔开,第二方向和第三方向垂直于第一方向。半导体装置还包括沿第二方向与第一区域相邻的第二区域,其中,第二区域包括具有第二半导体主体的存储器单元。
天眼查资料显示,长江存储科技有限责任公司,成立于2016年,位于武汉市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本12469608.0404万人民币。通过天眼查大数据分析,长江存储科技有限责任公司共对外投资了3家企业,参与招投标项目1503次,财产线索方面有商标信息1032条,专利信息6309条,此外企业还拥有行政许可1243个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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