国家知识产权局信息显示,亚洲光学股份有限公司申请一项名为“立体成像系统”的专利,公开号CN122923272A,申请日期为2026年3月。
专利摘要显示,一种立体成像系统,包括复数个反射面,其中:第一反射面朝向第二反射面;第一入射区设置于第一反射面与第二反射面之间;来自物侧的第一光线先通过第一入射区再入射第一反射面,经第一反射面反射再入射第二反射面,再经第二反射面反射由第一出射区射出;第三反射面朝向第四反射面;第二入射区设置于第三反射面与第四反射面之间;以及来自物侧的第二光线先通过第二入射区再入射第四反射面,经第四反射面反射再入射第三反射面,再经第三反射面反射由第二出射区射出。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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