做发光材料研究的朋友应该都有体会,要获得准确的荧光效率数据,日常接触的样品形态五花八门:有的是分散在溶剂里的纳米颗粒悬浮液,有的是研磨后干燥的荧光粉末,还有的是沉积在基底上的功能薄膜,不同形态样品的背景干扰、光散射、基底影响等问题,很容易让测量结果出现偏差,而光致发光量子效率测试仪HiYield-PL正是针对这些不同形态样品的测量痛点做了针对性设计,作为高适配性的发光量子产率测量平台,能有效解决多场景下的测量难题。
HiYield-PL是一款光致发光量子效率测量仪,用于测量发光粉体、薄膜和光功能材料的PLQY及吸收、发射特性。系统支持两步法和三步法,并集成积分测量与数据校正。适用于荧光粉、量子点、发光陶瓷、薄膜材料和配方筛选。PLQY是荧光粉、量子点、发光陶瓷、钙钛矿薄膜和光转换材料的重要指标,但弱吸收、散射和样品形态会显著影响结果。HiYield-PL支持两步法和三步法,便于针对粉体、薄膜和固体样品选择合适的测量方法。
技术特点
1.支持两步法和三步法PLQY测试,可根据样品吸收和散射特性选择测量流程。
2.测试波长范围覆盖300-900 nm,扩展近红外1700 nm,适配常见可见发光材料及近红外体系。
3.可同步输出吸收光谱、发射光谱、光谱功率分布、峰值波长和中心波长等参数。
4.光学耦合部件、样品仓、积分测量主机与分析软件建立标准化绝对量子效率测量测量流程。
优势
1.聚焦PLQY标准化测量,流程比通用荧光光谱仪外接积分球更清晰、易复现。
2.两步法/三步法兼容提高对不同样品形态和弱吸收材料的适配能力。
3.专用PLQY测量流程比通用荧光光谱仪外接积分球更易保持校准、操作与数据处理的一致性。

光致发光量子效率测量系统 HiYield-PL
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光致发光量子效率测量系统 HiYield-PL

粉末、溶液、薄膜,HiYield-PL全都能测 做发光材料研究的朋友应该都有体会,我们日常接触的样品形态实在五花八门:有的是分散在溶剂里的纳米颗粒悬浮液,有的是研磨后干燥的荧光粉末,还有的是通过蒸镀、旋涂等工艺沉积在玻璃、硅片等基底上的功能薄膜。
不同形态的样品,在做光学性能测量时,往往会遇到各自的难点:溶液类样品很容易受到溶剂本身的背景信号干扰,想要得到准确的发光数据得花不少功夫做背景扣除;粉末样品因为表面粗糙、颗粒分布不均,测量时会出现非常严重的光散射问题,很容易导致结果偏差;薄膜样品则需要考虑基底本身的吸收和反射影响,测试时的光路角度、放置方式稍有不对,数据可靠性就会打折扣。
发光量子产率测量平台HiYield-PL正是针对这些不同形态样品的测量痛点做了针对性设计,能够完美兼容固体、粉末、溶液、薄膜等多种常见的样品形态。针对不同类型的样品,系统都配备了对应的专用样品架和适配的光路配置:测量粉末样品时,可以搭配专用的积分球样品杯,能够最大程度降低粉末散射带来的光信号损失,保证收集效率更高;测量溶液样品时,可以选择配套的石英比色皿夹持装置,不仅固定稳固,还能适配不同规格的比色皿,同时减少溶剂背景的校准也更方便;测量薄膜样品时,只需要将样品放置在标准样品托上就可以直接测量,适配多种尺寸的薄膜样品都能平稳放置,同时光路设计也针对性规避了基底反射、吸收的干扰。
对于做多体系材料研究的课题组来说,比如同时开展量子点溶液合成和钙钛矿薄膜制备这类跨形态研究的团队,这种全形态兼容的测量能力就显得格外实用:不需要为不同类型的样品单独采购多台测量设备,只需要一台HiYield-PL,就能覆盖绝大多数常规发光性能测量的核心需求,不仅能省下不少设备采购和维护的成本,也省去了不同设备之间数据校准、数据对比的麻烦,能有效提升整个课题组的研究效率。

HiYield-PL量子效率测试仪可适配粉末溶液薄膜多形态样品测量
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HiYield-PL量子效率测试仪可适配粉末溶液薄膜多形态样品测量

总的来说,光致发光量子效率测试仪HiYield-PL作为全形态兼容的发光量子产率测量平台,从样品适配、光路优化到信号校准全流程都做了针对性设计,从根源上解决了不同形态样品的测量干扰问题,能够为各类发光材料研究提供稳定可靠的荧光效率测量数据,真正实现了一台设备覆盖多场景研究需求,是发光材料相关课题组降低采购成本、提升研究效率的优质选择。