国家知识产权局信息显示，上海艾普强粒子设备有限公司申请一项名为“基于GPU并行化的自适应追踪射线轨迹的前投影方法”的专利，公开号CN122949036A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明提供一种基于GPU并行化的自适应追踪射线轨迹的前投影方法，其包括：确定射线的几何参数方程；每个GPU线程执行单射线的计算；对每条单射线，判断该单射线是否穿过三维体数据的有效范围，若是，则单射线有效；对有效的单射线，根据单射线的斜率自适应选择主步进轴，并筛选得到有效采样点；计算体素索引与亚体素偏移量，通过双线性插值采样得到线性衰减系数；对所有有效采样点进行路径长度加权累加，得到投影像素灰度值；整合得到前投影结果。本发明的方法通过三维边界预判定剔除无效射线，基于射线斜率自适应选择步进主轴，结合双线性插值与路径长度校正实现高精度积分，依托并行架构实现同步计算，大幅提升计算效率。

天眼查资料显示，上海艾普强粒子设备有限公司，成立于2011年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本17960.3333万人民币。通过天眼查大数据分析，上海艾普强粒子设备有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目64次，财产线索方面有商标信息22条，专利信息147条，此外企业还拥有行政许可50个。

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作者：情报员