国家知识产权局信息显示，无锡奥夫特光学技术有限公司申请一项名为“一种深腔内部底切结构的清洗方法”的专利，公开号CN122940107A，申请日期为2026年8月。

专利摘要显示，本发明属于微纳制造湿法工艺技术领域，具体涉及一种深腔内部底切结构的清洗方法，低速定向压力清洗，晶圆基片固定在转轴上，转轴与水平方向设定既定角度；转轴以设定慢速进行旋转；以稳定压力在晶圆基片的待清洗侧喷射去离子水清洗第一固定时间；中速离心置换冲洗，提升转轴的转速至设定中速旋转；继续以稳定压力在晶圆基片的待清洗侧喷射去离子水第二固定时间；高速甩干，完成中速离心置换冲洗后，停止喷射去离子水；转轴以设定高速甩干晶圆基片的残留去离子水第三固定时间；干燥处理，对晶圆基片进行干燥处理。本发明通过先清洗，然后对清洗用的去离子水进行置换，置换完成后对残留的去离子水进行甩干，有效实现对晶圆基片的深腔底切的清洗。

天眼查资料显示，无锡奥夫特光学技术有限公司，成立于2014年，位于无锡市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，无锡奥夫特光学技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目2次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息60条，此外企业还拥有行政许可17个。

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作者：情报员