国家知识产权局信息显示，KOMICO有限公司申请一项名为“涂层制造方法及由此制造的耐等离子体部件”的专利，公开号CN122953332A，申请日期为2025年3月。

专利摘要显示，本发明的实施例提供一种涂层制造方法，所述涂层制造方法包括：准备步骤，准备涂覆对象物，第一涂层形成步骤，通过气溶胶沉积，在所述涂覆对象物上形成铝（Aluminum）氧化物类、钇（Yttrium）氧化物类或锆（Zirconium）氧化物类的第一涂层，以及第二涂层形成步骤，通过物理气相沉积，在所述第一涂层上形成铝（Aluminum）氧化物类、钇（Yttrium）氧化物类或钇（Yttrium）氟化物类的第二涂层；所述第二涂层包括在所述涂覆对象物表面上沿垂直方向延伸的柱状晶体的排列。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员